Electron beam exposure system

WO0229868 Art A1 11. April 2002

Anmelder: ADVANTEST CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0229868
Aktenzeichen
EP01972646
Anmeldetag
2. Oktober 2001
Veröffentlichung
11. April 2002
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F7/20H01L21/68F16C32/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ADVANTEST CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

1.227 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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