Chemically modified substrate and process for producing the same

WO0231502 Art A1 18. April 2002

Anmelder: Toyo Kohan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0231502
Aktenzeichen: EP01972696
Anmeldetag: 5. Oktober 2001
Veröffentlichung: 18. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G01N33/543G01N33/551G01N33/552G01N33/53G01N33/566G01N37/00C01B31/02C01B31/06C03C17/42C03C17/28C12N15/09C12M1/00C23C22/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toyo Kohan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toyo Kohan

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Metallwerkstoffen und Verbundmaterialien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente und pharmazeutische Anwendungen. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Pharma & Biotechnologie

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