Co2-processes photoresists, polymers, and photoactive compounds for microlithography

WO0231596 Art A1 18. April 2002

Anmelder: UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL, NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0231596
Aktenzeichen: EP01977632
Anmeldetag: 10. Oktober 2001
Veröffentlichung: 18. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/26G03F7/36

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Firmen: UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of North Carolina at Chapel Hill

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