Ruthenium film and ruthenium oxide film, and method for formation thereof
WO0232839
Art A1
25. April 2002
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0232839
- Aktenzeichen
- EP01976693
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 25. April 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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