Plasmareaktor mit Verkleinerter Reaktionskammer
WO0233729
Art A2
25. April 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0233729
- Aktenzeichen
- EP01979805
- Anmeldetag
- 15. Oktober 2001
- Veröffentlichung
- 25. April 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.