Semiconductor device and method of manufacture thereof
WO0233738
Art A1
25. April 2002
Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0233738
- Aktenzeichen
- EP00966495
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 25. April 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205H01L29/78H01L29/737
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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