Verfahren und Vorichtung für einen Äquivalenten Rc Schaltkreises in einem Mos Bauelement unter Verwendung Resisitiver Wannen

WO0233748 Art A2 25. April 2002

Anmelder: SUN MICROSYSTEMS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0233748
Aktenzeichen: EP01977652
Anmeldetag: 9. Oktober 2001
Veröffentlichung: 25. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8238H01L27/092H01L27/07

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SUN MICROSYSTEMS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Sun Microsystems

Ehemaliger US-amerikanischer Hersteller von Servern, Workstations und Software, bekannt unter anderem für die Programmiersprache Java und das Betriebssystem Solaris. Das Unternehmen wurde 2010 von Oracle übernommen.

1.436 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von