Nichtflüchtige Halbleiterspeicherzellenanordnung und Verfahren zu deren Herstellung

WO0233754 Art A1 25. April 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0233754
Aktenzeichen: EP01978128
Anmeldetag: 12. September 2001
Veröffentlichung: 25. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/115H01L21/8246

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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