Vorrichtung und Verfahren zum Filtern von Geladenen Teilchen und Vorrichtung und Verfahren zur Ionenimplantation

WO0233764 Art A2 25. April 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0233764
Aktenzeichen: EP01987953
Anmeldetag: 16. Oktober 2001
Veröffentlichung: 25. April 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01M2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von