Monitoring of film characteristics during plasma-based semiconductor processing using optical emission spectroscopy

WO0239097 Art A2 16. Mai 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0239097
Aktenzeichen: EP01990180
Anmeldetag: 30. Oktober 2001
Veröffentlichung: 16. Mai 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/71

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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