Zusammensetzung für Resist-Unterschichten, Verfahren zu deren Herstellung, sowie die Entsprechenden Schichten und deren Erzeugung

WO0239187 Art A1 16. Mai 2002

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0239187
Aktenzeichen: EP01981000
Anmeldetag: 7. November 2001
Veröffentlichung: 16. Mai 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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