Process For Reducing Edge Roughness in Patterned Photoresist

WO0241080 Art A2 23. Mai 2002

Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0241080
Aktenzeichen: EP01980715
Anmeldetag: 6. November 2001
Veröffentlichung: 23. Mai 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Axcelis Technologies, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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