Multi-beam lithography apparatus provided with a differential vacuum system

WO0241354 Art A1 23. Mai 2002

Anmelder: Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0241354
Aktenzeichen: EP01994652
Anmeldetag: 9. November 2001
Veröffentlichung: 23. Mai 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/301H01J37/18H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Koninklijke Philips Electronics N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 Philips

Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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