Deodorant, masking agent for ammonia, deodorant for excretion odor, and water-absorbing deodorizing material
WO0241927
Art A1
30. Mai 2002
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0241927
- Aktenzeichen
- EP01997198
- Anmeldetag
- 26. November 2001
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61L9/01A61L15/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
2.552 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.