Method and apparatus for measuring aberration of projection optical system, and method and apparatus for exposure

WO0242728 Art A1 30. Mai 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0242728
Aktenzeichen: EP01997682
Anmeldetag: 21. November 2001
Veröffentlichung: 30. Mai 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G01M11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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