Catadioptric projection system for 157 nm lithography

WO0244786 Art A2 6. Juni 2002

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0244786
Aktenzeichen: EP01998861
Anmeldetag: 28. November 2001
Veröffentlichung: 6. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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