Pattern forming method for carbon nanotube, and field emission cold cathode and method of manufacturing the cold cathode
WO0245113
Art A1
6. Juni 2002
Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0245113
- Aktenzeichen
- EP01998168
- Anmeldetag
- 26. November 2001
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J9/02H01J1/304H01J31/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NEC Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NEC
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.
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