Pattern forming method for carbon nanotube, and field emission cold cathode and method of manufacturing the cold cathode

WO0245113 Art A1 6. Juni 2002

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO0245113
Aktenzeichen
EP01998168
Anmeldetag
26. November 2001
Veröffentlichung
6. Juni 2002
Rechtsraum
WO
IPC
H01J9/02H01J1/304H01J31/12
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NEC Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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