Measurement device with remote adjustment of electron beam stigmation by using mosfet ohmic properties and isolation devices

WO0245124 Art A2 6. Juni 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0245124
Aktenzeichen: EP01995846
Anmeldetag: 30. November 2001
Veröffentlichung: 6. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/153H01J37/28H01J37/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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