Verfahren zur Vorbehandlung von Dielektrischen Schichten zur Verstärkung der Adhäsion von Cvd-Metallschichten

WO0245147 Art A2 6. Juni 2002

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0245147
Aktenzeichen: EP01986068
Anmeldetag: 31. Oktober 2001
Veröffentlichung: 6. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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