Maskenhalter und Verfahren zum Beschichten von Substraten

WO0248423 Art A2 20. Juni 2002

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0248423
Aktenzeichen: EP01986877
Anmeldetag: 14. Dezember 2001
Veröffentlichung: 20. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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