Vorrichtung und Verfahren zum Nachweis eines Fehler in den Prozessbedingungen eines Halbleitersherstellungsverfahrens, mittels Optischer Emissionsspektroskopie

WO0248683 Art A2 20. Juni 2002

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0248683
Aktenzeichen: EP01989104
Anmeldetag: 15. November 2001
Veröffentlichung: 20. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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