Charged particle beam microscope, charged particle beam application device, charged particle beam microscopic method, charged particle beam inspecting method, and electron microscope

WO0249066 Art A1 20. Juni 2002

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0249066
Aktenzeichen: EP01270211
Anmeldetag: 29. November 2001
Veröffentlichung: 20. Juni 2002
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01J37/153H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

14.673 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen