Polierverfahren von Dielektrischen Schichtungen mit Fixiertem Schleifmittel
WO0249090
Art A2
20. Juni 2002
Anmelder: Infineon Technologies Corporation, International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0249090
- Aktenzeichen
- EP01984941
- Anmeldetag
- 29. November 2001
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Infineon Technologies Corporation
International Business Machines Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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