Mehrstufige Löcherfüllung und Planarisierung von Allen Merkmalen für Leitende Materialen
WO0250336
Art A2
27. Juni 2002
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0250336
- Aktenzeichen
- EP01989912
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2001
- Veröffentlichung
- 27. Juni 2002
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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