Silicon single crystal substrate, epitaxial wafer, and method for manufacturing them
WO03000962
Art A1
3. Januar 2003
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03000962
- Aktenzeichen
- EP02738764
- Anmeldetag
- 19. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.