Method for determining lithographic focus and exposure

WO03001297 Art A2 3. Januar 2003

Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03001297
Aktenzeichen: EP02742374
Anmeldetag: 26. Juni 2002
Veröffentlichung: 3. Januar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/24G02B7/04G03B27/52G03B27/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KLA-Tencor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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