Method and apparatus for use of plasmon printing in near-field lithography

WO03001869 Art A2 9. Januar 2003

Anmelder: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03001869
Aktenzeichen: EP02759075
Anmeldetag: 29. Mai 2002
Veröffentlichung: 9. Januar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 California Institute of Technology

Private Forschungsuniversität in Pasadena, Kalifornien (USA), mit Schwerpunkt auf Naturwissenschaften und Ingenieurwesen. Sie betreibt unter anderem das Jet Propulsion Laboratory und zählt zu den weltweit führenden Technikhochschulen.

1.994 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von