Photosensitive resin composition, process of forming patterns with the same, and electronic components

WO03005127 Art A1 16. Januar 2003

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03005127
Aktenzeichen: EP02743797
Anmeldetag: 3. Juli 2002
Veröffentlichung: 16. Januar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/075C08G73/14C08G69/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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