Plasma pump with inter-stage plasma source
WO03005406
Art A1
16. Januar 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03005406
- Aktenzeichen
- EP02782489
- Anmeldetag
- 2. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/02H01J37/32H01J41/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.