Hableiter-Vorrichtung, Halbleiter-Teststruktur und Verfahren zum Herstellen einer Halbleiter-Vorrichtung

WO03005410 Art A2 16. Januar 2003

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03005410
Aktenzeichen: EP02750787
Anmeldetag: 14. Juni 2002
Veröffentlichung: 16. Januar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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