Polyparaxylylene film, production method therefor and semiconductor device

WO03011952 Art A1 13. Februar 2003

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03011952
Aktenzeichen: EP02746133
Anmeldetag: 22. Juli 2002
Veröffentlichung: 13. Februar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C08J5/18C08G61/02H01L21/768H01L21/312H05K3/46// C08L65:04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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