Objektiv, insbesondere Projektionsobjectiv für die Halbleiter-Lithographie

WO03012529 Art A2 13. Februar 2003

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03012529
Aktenzeichen: EP02760256
Anmeldetag: 20. Juli 2002
Veröffentlichung: 13. Februar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G02B27/62G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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