Gasverteilungselektrodenanordnung für Halbleiterbehandlungsreaktor

WO03015133 Art A2 20. Februar 2003

Anmelder: Lam Research 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03015133
Aktenzeichen: EP02750355
Anmeldetag: 31. Juli 2002
Veröffentlichung: 20. Februar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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