Vorrichtung zur Zufuhr von Gasgemischen zu einem Cvd-Reaktor

WO03016590 Art A2 27. Februar 2003

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03016590
Aktenzeichen: EP02754365
Anmeldetag: 15. Juli 2002
Veröffentlichung: 27. Februar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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