Mask replacement method and exposure device

WO03017344 Art A1 27. Februar 2003

Anmelder: NIKON CORPORATION, Sendai Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03017344
Aktenzeichen: EP02760677
Anmeldetag: 20. August 2002
Veröffentlichung: 27. Februar 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Sendai Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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