A Low-K Pre-Metal Dielectric Semiconductor Structure
WO03019619
Art A2
6. März 2003
Anmelder: International Business Machines Corporation, Infineon Technologies North America Corp. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03019619
- Aktenzeichen
- EP02757073
- Anmeldetag
- 8. August 2002
- Veröffentlichung
- 6. März 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- International Business Machines Corporation
Infineon Technologies North America Corp. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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