Reduktion von Elektrostatischer Ladung auf einem Substrat Während eines Pecvd-Prozesses

WO03021003 Art A1 13. März 2003

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03021003
Aktenzeichen: EP02761181
Anmeldetag: 26. Juli 2002
Veröffentlichung: 13. März 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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