Polishing fluid for metallic film and method for producing semiconductor substrate using the same

WO03021651 Art A1 13. März 2003

Anmelder: Asahi Kasei Chemicals, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03021651
Aktenzeichen: EP02755879
Anmeldetag: 8. August 2002
Veröffentlichung: 13. März 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Kasei Chemicals, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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