Optical system, projection optical system, exposure device having the projection optical system, and method for manufacturing micro device using the exposure device

WO03023481 Art A1 20. März 2003

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03023481
Aktenzeichen: EP02770171
Anmeldetag: 29. August 2002
Veröffentlichung: 20. März 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G02B13/24G02B27/28G03F7/20G03F7/22H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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