Attenuating phase shift mask for photolithography

WO03023522 Art A1 20. März 2003

Anmelder: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03023522
Aktenzeichen: EP01996220
Anmeldetag: 10. Dezember 2001
Veröffentlichung: 20. März 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03C5/00G21K5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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