Diaphragm device, projection optical system and projection exposure device, and micro-device producing method

WO03028074 Art A1 3. April 2003

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03028074
Aktenzeichen: EP02799501
Anmeldetag: 26. September 2002
Veröffentlichung: 3. April 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20G03B9/02G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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