Matching device and plasma processing apparatus
WO03030294
Art A1
10. April 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Nihon Koshuha Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03030294
- Aktenzeichen
- EP02768121
- Anmeldetag
- 27. September 2002
- Veröffentlichung
- 10. April 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01P5/04H05H1/46H01L21/302H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Nihon Koshuha Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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