Method of titanium and titanium nitride layer deposition

WO03033169 Art A1 24. April 2003

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03033169
Aktenzeichen: EP02801648
Anmeldetag: 2. Oktober 2002
Veröffentlichung: 24. April 2003
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/04B05D1/36B05D3/00H05H1/00C23C16/00C23C16/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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