Method and device for gas displacement, mask protective device, mask, and method and device for exposure

WO03034475 Art A1 24. April 2003

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03034475
Aktenzeichen: EP02777822
Anmeldetag: 10. Oktober 2002
Veröffentlichung: 24. April 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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