Pattern drawing method, mask, and mask manufacturing method

WO03034476 Art A1 24. April 2003

Anmelder: WASEDA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03034476
Aktenzeichen: EP02788575
Anmeldetag: 16. Oktober 2002
Veröffentlichung: 24. April 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/16G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: WASEDA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Waseda University

Waseda University ist eine private japanische Universität mit Sitz in Tokio und breitem ingenieurwissenschaftlichem Forschungsprofil. Das Patentportfolio verteilt sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente, Medizintechnik und Gesundheit sowie Mess- und Werkstofftechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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