Halbleiterstruktur mit einer Spule unter der Ersten Verdrahtungsschicht oder zwischen Zwei Verdrahtungsschichten
WO03038899
Art A2
8. Mai 2003
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03038899
- Aktenzeichen
- EP02774737
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 8. Mai 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/08H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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