Zweistufiges Ätzverfahren zur Entfernung einer Hartmaske

WO03041150 Art A2 15. Mai 2003

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03041150
Aktenzeichen
EP02786694
Anmeldetag
6. November 2002
Veröffentlichung
15. Mai 2003
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/311H01L21/316H01L21/314H01L21/8247
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

1.708 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen