A mask for crystallizing polysilicon and a method for forming thin film transistor using the mask

WO03043093 Art A1 22. Mai 2003

Anmelder: Samsung Electronics Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03043093
Aktenzeichen
EP02716486
Anmeldetag
24. Januar 2002
Veröffentlichung
22. Mai 2003
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Samsung Electronics Co., Ltd.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Samsung Electronics

Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.

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