Gatter-Polysilizium-Doterungsniveau-Variation zur Reduzierung von Leckstrom
WO03044855
Art A2
30. Mai 2003
Anmelder: ALTERA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03044855
- Aktenzeichen
- EP02778830
- Anmeldetag
- 12. November 2002
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/8238
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ALTERA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Altera Corporation
US-amerikanischer Hersteller programmierbarer Logikbausteine (FPGAs) für Kommunikations-, Industrie- und Rechenzentrumsanwendungen.
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