Device and method for vacuum film formation

WO03046246 Art A1 5. Juni 2003

Anmelder: NEC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03046246
Aktenzeichen: EP02783599
Anmeldetag: 21. November 2002
Veröffentlichung: 5. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/24C23C14/56H01M4/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NEC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von